Mascarilla hidratante Chok-Chok Hyaluronic Acid & Algae

La Mascarilla Hidratante Chok-Chok Hyaluronic Acid & Algae de Ondo Beauty 36.5 está fabricada con un tejido biodegradable y contiene un 88% de agua de hamamelis, complejo de 8 plantas marinas y niacinamida, los cuales ayudan a rellenar e hidratar profundamente la piel.

Es perfecta para personas con piel deshidratada que buscan resaltar la luminosidad y lograr el efecto coreano de piel de vidrio.

La mascarilla estimulante de ácido hialurónico y algas incluye un 88% de agua de hamamelis, que es el ingrediente activo principal para calmar la piel, limpiar y minimizar los poros dilatados.

El complejo de plantas marinas con 7 tipos de extractos de algas y Narciso Marino (planta marina) enriquece la piel con nutrientes esenciales.

La niacinamida, derivada de la vitamina B3, calma, ilumina la piel y previene la aparición de manchas oscuras.

El Aquaxyl optimiza el flujo de hidratación de la piel, controla la circulación y las reservas de agua, proporcionando un “escudo anti-deshidratación” con efectos visibles en 8 horas.

Vegan.

Cruelty free.

Usa la mascarilla Hyaluronic Acid & Algae para rellenar e hidratar profundamente la piel.

Maritimum Extract, Sodium Hyaluronate, Xylitol, Xylitylglucoside, Anhydroxylitol, Allantoin, Magnesium PCA, Zinc PCA, Sodium PCA, Tocopherol, Citrus Aurantium Bergamia (Bergamot) Fruit Oil, Rosmarinus Officinalis (Rosemary) Leaf Oil, Betaine, Aqua (Water/Eau), Butylene Glycol, Caprylyl Glycol, Pentylene Glycol, Polyglyceryl-10 Laurate, Sodium Phytate, Xanthan Gum, Ethylhexylglycerin, Carbomer, Tromethamine, Limonene*.*Presente naturalmente en los aceites esenciales.